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디자인 창작 및 보호 환경조성 위해 소통의 장 마련

2022.07.28 특허청

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디자인 창작 및 보호 환경조성 위해 소통의 장 마련

- 한국·중국·일본 특허청 및 산업계 전문가 한 자리에 -

□ 특허청(청장 이인실)은 2022년 한·중·일 디자인포럼(이하 ‘포럼’)을 8월 1일(월) 오후 2시부터 온라인으로 개최한다고 밝혔다.

ㅇ 올해 11회째를 맞이하는 이번 포럼*은 ‘국제경제 확장 및 웹 3.0시대에서의 디자인 보호’를 주제로 개최된다.
* 한-일-중 특허청이 매년 순차적으로 개최, 올해는 일본 특허청이 주최

□ 이번 포럼에서는 헤이그 협정*(‘22.5.5)으로 중국이 국제디자인출원제도에 합류함에 따라, 3국(한·중·일)에 디자인 동시 출원 시 알아두어야 할 각국 디자인 제도와 심사 실무를 공유한다.
* 산업디자인의 국제등록에 관한 헤이그 협정의 제네바 개정협정

ㅇ 또한, 한·중·일 산업계 연사를 초청하여 확장 가상 세계(메타버스)나 대체 불가능한 토큰(NFT) 등 신기술과 디자인, 웹 3.0시대에 대응하는 업계 동향 등을 다룰 예정이다.

□ 온라인 포럼은 관련 링크*에서 사전신청을 통해 누구나 참석 가능하며, 한국·중국·일본어가 동시통역으로 제공된다.
* https://us02web.zoom.us/webinar/register/WN_mtCrWluXR9i7KGANsMnxYA

□ 특허청 목성호 상표디자인심사국장은 “최근 중국·일본의 디자인 관련 법·제도 및 산업계 동향을 파악할 수 있는 좋은 기회이므로, 관심 있는 분들의 많은 참여를 바란다”고 말했다.

“이 자료는 특허청의 보도자료를 전재하여 제공함을 알려드립니다.”

<자료출처=정책브리핑 www.korea.kr>

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