뉴스에서 봤던 용어, 이해하기 쉽게 설명해드립니다. 오늘은 ‘포토레지스트’입니다.
◆ 포토레지스트란?
빛을 쬐면 그 부분만 구조변화를 일으켜, 용매에 녹지 않거나, 반대로 쉽게 녹는 물질로 변하는 고분자 재료로, 웨이퍼 위에 집적회로 패턴을 찍어낼 때 사용합니다. 웨이퍼 위에 포토레지스트를 바르고, 그 위에 회로모양 대로 빛을 쬐어주면 사진이 찍히듯 회로모양이 웨이퍼에 인쇄됩니다. 이 같은 공정을 포토 공정이라고 합니다.
포토레지스트(감광액)이 도포된 웨이퍼 위에 빛으로 회로모양을 찍어낸 후, 조각칼로 고무판을 파내어 모양을 만들듯 현상액(웨이퍼 위에 찍힌 형상이 드러나도록 하는데 쓰이는 액체)을 뿌려 감광액의 일부를 제거하는데요.
이때 감광액은 사용된 종류에 따라 빛에 닿은 부분 또는 닿지 않은 부분이 제거됩니다. 이후 식각(etching)공정을 통해 반도체의 회로 모양을 완성하고, 남은 포토레지스트(감광액)을 모두 제거하게 되는데요.
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