기획재정부는 “첨단반도체 등 미래성장 산업 지원을 위해 연구·인력개발(R&D) 비용, 설비투자 등 다양한 세제지원을 확대·운영 중”이라며 “기사에서 사용하는 법인세 유효세율은 실제 기업이 부담하는 법인세 실효세율과는 차이가 있다”고 밝혔습니다.

4월 2일 한국경제 <稅감면 美40% vs 韓3%…‘세금 족쇄’ 차고 뛰는 K반도체>, <삼성전자 稅부담, TSMC의 2.5배>에 대한 기획재정부의 설명입니다

[기사 내용]

ㅇ반도체 대기업에 주는 세제혜택은 초라한 수준이란 게 업계의 평가다…‘신성장기술분야’ 시설투자에 대해 공제율을 3%로 올렸지만 미국, EU에 비해선 ‘새 발의 피’ 수준이라는 지적이 나온다.

ㅇ삼성전자의 유효세율이 27.3%로 가장 높았고…TSMC와 인텔의 유효세율은 각각 11.4%, 16.7%에 불과했다. 삼성전자의 경우 TSMC의 2.5배, 인텔의 1.6배에 달하는 세 부담을 지고 있다는 분석이다.

[기재부 입장]

□ 정부는 첨단반도체 등 미래성장 산업 지원을 위해 연구·인력개발(R&D) 비용, 설비투자 등 다양한 세제지원을 확대·운영 중입니다.

ㅇ (R&D비용) 기업이 신성장·원천기술*에 지출한 R&D 비용은 최대 30%(중소기업 40%)를 소득·법인세에서 세액공제

* 반도체·미래자동차·신재생에너지 등 12대 분야 240개 기술(조특법 시행령 별표7)

** 공제율 : 중소기업 30~40%, 중견기업 20~30%, 대기업 20~30%

- 특히, ‘21.2월 조세특례제한법 시행령 개정을 통해 신성장·원천기술의 범위에 첨단메모리 반도체, 반도체 소재 제조기술 등을 신규로 포함

ㅇ (설비투자) 기업의 설비투자 촉진을 위해 통합투자세액공제 제도를 도입(‘20.12월, 조세특례제한법 개정)

- 첨단반도체 제조시설 등 신성장·원천기술을 사업화하기 위한 시설 투자는 기본 공제율을 우대*(+2%p) 적용하고,

* 공제율: (일반시설) 기본공제(중소 10%, 중견 3%, 대 1%) + 증가분 추가공제(3%)(신성장사업화시설) 기본공제(중소 12%, 중견 5%, 대 3%) + 증가분 추가공제(3%)

- 3년 평균 투자금액 대비 투자 증가분에 대해서는 기업규모와 관계없이 3%의 추가 공제를 적용하여 대기업도 최대 6%(기본 3%+증가분 3%) 수준의 공제 가능

ㅇ (이월공제 기간 확대) 기업이 최저한세 적용 등으로 당해연도에 공제받지 못한 세액공제의 이월공제 기간을 종전 5년에서 10년으로 대폭 확대(‘20.12월, 조세특례제한법 개정)

ㅇ (감가상각비 손금산입 특례) ’21년에 대기업이 투자하는 신성장ㆍ원천기술 사업화시설 등 혁신성장 투자자산에 대해 가속상각 50%* 허용(‘20.12월, 조세특례제한법 개정)

* 중소·중견기업은 사업용자산에 대해 가속상각 75% 허용

□ 참고로 기사에서 사용하는 법인세 유효세율(회계상 법인세 비용÷법인세차감전순이익)은 실제 기업이 부담하는 법인세 실효세율*과는 차이가 있어 법인세 유효세율로 기업 간 세부담을 비교하는 것은 유의할 필요가 있습니다. 

* 법인세 실효세율 = 총부담세액 ÷ 과세표준

문의 : 기획재정부 세제실 조세특례제도과(044-215-4130), 세제실 법인세제과(044-215-4220)